Beneq C2R
Beneq C2R 是 Beneq 官方 Spatial Series 产品线中的低温 PEALD 空间 ALD 系统，官方列出最高 2000 nm/h 或 0.55 nm/s 沉积速率。
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← 返回产品列表Beneq C2R 为 low-temperature PEALD spatial ALD system。
参数列出最高 2000 nm/h 或 0.55 nm/s 沉积速率，最高 200 rpm，cycle time 300 ms。
页面还列出可处理最多 7 片 200 mm 晶圆。
| 型号 | Beneq C2R |
|---|---|
| 工艺类型 | low-temperature PEALD spatial ALD |
| 沉积速率 | up to 2000 nm/h or 0.55 nm/s |
| 转速 | up to 200 rpm |
| Cycle time | 300 ms |
| 晶圆容量 | up to 7 pcs 200 mm wafers |
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