X射线光电子能谱仪（XPS）

产品特点 ·易操作式多功能选配附件 ·全自动样品传送停放 ·高性能大面积和微区 XPS 分析 ·快速精准深度剖析 ·为电池、半导体、有机器件以及其他各领域提供全面解决方案 简单易操作 PHI GENESIS 500 提供了一种全新的用户体验，仪器高性能、全自动化、简单易操作。

操作界面可在同一个屏幕内设置常规和高级的多功能测试参数，同时保留诸如进样照片导航和 SXI 二次电子影像精准定位等功能。简单友好的用户界面 PHI GENESIS 500提供了一个简单、直观且易于操作的用户界面，对于操作人员非常友好，操作人员执行简单的设置操作即可完成包括所有选配附件在内的自动化分析。

多功能选配附件 原位的多功能自动化分析，涵盖了从LEIPS测试导带到XPS芯能级激发的全范围技术，PHI GENESIS体现了前所未有的性能价值。全面的优良解决方案: 高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多种其他选配附件可以满足所有表面分析需求。

多数量样品大面积分析 ·把制备好样品的样品托放进进样腔室后将自动传送进分析腔室内 ·可同时使用三个样品托 ·80mmx80mm 的大样品托可放置多数量样品 ·可分析粉末、粗糙表面、绝缘体、形状复杂等各种样品 独一无二的可聚焦< 5um 的微区X射线束斑 在 PHI GENESIS 500 中，聚焦扫描X射线源可以激发二次电子影像(SXI)，利用二次电子影像可以进行导航、精准零误差定位、多点多区域同时分析测试以及深度剖析。

大幅提升的二次电子影像(SXI) 二次电子影像(SXI)精准零误差定位，保证了所见即所得。卓越的5 μm X射线束斑为微区 XPS分析应用提供了新的机遇。快速深度剖析 PHI GENESIS 500 可实现高性能的深度剖析。

聚焦X射线源、高灵敏度探测器、高性能氩离子枪和高效双束中和系统可实现全自动深度剖析，包括在同一个溅射刻蚀坑内进行多点同时分析。高性能的深度剖析能力 (下图左)全固态电池薄膜的深度剖析。

深度剖面清晰地显示了在2.0 μm 以下富Li界面的存在。（下图右) 在 LiPON 膜沉积初期，可以看到氧从 LiCoO2层转移到 LiPON 层中，使 Co 在 LiCoO2层富 Li 界面由氧化态还原为金属态。

角分辨 XPS 分析 PHI GENESIS 500 的高灵敏度微区分析和高度可重现的中和性能确保了对样品角分辨分析的卓越性能。另外，样品倾斜和样品旋转相结合，可同时实现角度的高分辨率和能量的高分辨率。