测量方法
产品概述与应用
产品说明
MC-200 是 200 mm thermally controlled wall CVD reactor，面向 MOCVD 工艺研发。
该系统可在同一工艺腔内进行 metal organic chemical vapor deposition 和 atomic layer deposition。
MC-200 可配置 motorized single wafer loadlock，以隔离工艺腔与大气；plasma option 可提供 PE-CVD 和 PE-ALD 能力。
规格参数
| 品牌 | Annealsys |
|---|---|
| 型号 | MC-200 |
| 产品类型 | 200 mm DLI-CVD / ALD 系统 |
| 处理尺寸 | 200 mm |
| 工艺能力 | MOCVD、ALD，可选 PE-CVD 和 PE-ALD |
| 可选配置 | motorized single wafer loadlock |
技术参数
| 品牌 | Annealsys |
|---|---|
| 型号 | MC-200 |
| 产品类型 | 200 mm DLI-CVD / ALD 系统 |
| 处理尺寸 | 200 mm |
| 工艺能力 | MOCVD、ALD，可选 PE-CVD 和 PE-ALD |
| 可选配置 | motorized single wafer loadlock |
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