测量方法
产品概述与应用
产品说明
CVP21 Wafer Profiler 通过 Electrochemical Capacitance Voltage Profiling 测量半导体层中的掺杂剖面。
- 设备用于半导体研发或生产中的 ECV-Profiling / CV-Profiling。
- 系统支持从 4*2 mm² 样品到完整 8 inch 晶圆尺寸的标准样品范围。
- 浓度分辨率范围为 <10¹² cm⁻³ 到 >10²¹ cm⁻³，深度分辨率为 1 nm 到 100 µm，具体取决于材料类型和样品质量。
规格参数
| 品牌 | WEP Control |
|---|---|
| 型号 | CVP21 |
| 产品类型 | Wafer Profiler |
| 占地尺寸 | 60(W)*80(D)*195(H)cm |
| 样品范围 | 4*2 mm² to complete 8 inch wafer |
| 浓度分辨率 | <10¹² cm⁻³ to >10²¹ cm⁻³ |
| 深度分辨率 | 1 nm to 100 µm |
技术参数
| 品牌 | WEP Control |
|---|---|
| 型号 | CVP21 |
| 产品类型 | Wafer Profiler |
| 占地尺寸 | 60(W)*80(D)*195(H)cm |
| 样品范围 | 4*2 mm² to complete 8 inch wafer |
| 浓度分辨率 | <10¹² cm⁻³ to >10²¹ cm⁻³ |
| 深度分辨率 | 1 nm to 100 µm |
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