Annealsys MC-100 DLI-CVD / DLI-ALD 沉积系统
MC-100
MC-100 是 100 mm Direct Liquid Injection 沉积系统，可在同一工艺腔内执行 CVD、ALD 和 pulse pressure CVD。
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说明
产品说明
MC-100 是 4 英寸（100 mm）Direct Liquid Injection deposition system。
该系统可在同一工艺腔内执行 CVD、ALD 和 pulse pressure CVD。
MC-100 采用 rotating substrate heater，并可调整基片在反应器内的高度，以增强薄膜均匀性。
规格参数
| 品牌 | Annealsys |
|---|---|
| 型号 | MC-100 |
| 产品类型 | 100 mm DLI-CVD / DLI-ALD 沉积系统 |
| 处理尺寸 | 100 mm / 4 英寸 |
| 工艺能力 | CVD、ALD、pulse pressure CVD |
| 配置 | rotating substrate heater |
规格
| 型号 | MC-100 |
|---|---|
| 处理尺寸 | 100 mm / 4 英寸 |
| 工艺能力 | CVD、ALD、pulse pressure CVD |
| 配置 | rotating substrate heater |
FAQ
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