ASM International XP4 Pulsar 原子层沉积系统
XP4 Pulsar
Pulsar 反应器用于支持铪基高 k 介电材料在晶体管栅极中的应用，并用于满足 finFET 等先进节点三维晶体管结构的性能要求。Pulsar 反应腔和源输送系统针对精确气流动态和最短吹扫时间进行了优化，支持先进工艺控制、薄膜纯度和均匀性
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说明
Pulsar 反应器用于支持铪基高 k 介电材料在晶体管栅极中的应用，并用于满足 finFET 等先进节点三维晶体管结构的性能要求。
Pulsar 反应腔和源输送系统针对精确气流动态和最短吹扫时间进行了优化，支持先进工艺控制、薄膜纯度和均匀性。
Pulsar 面向固体源前驱体材料的气体输送设计。
规格
| 型号 | XP4 Pulsar |
|---|---|
| 产品名称 | XP4 Pulsar® |
| 产品说明 | Pulsar uses ALD to deposit the high-k dielectric materials required for advanced CMOS transistor high-k metal gates and other applications. Our most advanced Pulsar reactor is the AXIS, which includes a series of reactor improvements resul |
FAQ
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