
ASM International XP4 Pulsar 原子层沉积系统
Pulsar 反应器用于支持铪基高 k 介电材料在晶体管栅极中的应用,并用于满足 finFET 等先进节点三维晶体管结构的性能要求。Pulsar 反应腔和源输送系统针对精确气流动态和最短吹扫时间进行了优化,支持先进工艺控制、薄膜纯度和均匀性

Pulsar 反应器用于支持铪基高 k 介电材料在晶体管栅极中的应用,并用于满足 finFET 等先进节点三维晶体管结构的性能要求。Pulsar 反应腔和源输送系统针对精确气流动态和最短吹扫时间进行了优化,支持先进工艺控制、薄膜纯度和均匀性
材料表征、热分析、力学、粒度、表面和物性测试设备
按产品用途保留的其他专用仪器