
AIXTRON AIX G5 WW C 碳化硅化合物半导体沉积系统
将 AIX G5 WW C 定义为化合物半导体沉积系统,面向下一代 SiC 功率电子应用。写明该系统以批量外延的高吞吐量结合单片晶圆控制,目标是在同一设备方案中兼顾产能和外延层质量
- 型号
- AIX G5 WW C
- 应用材料
- SiC
- 工艺方向
- 批量外延与单片晶圆控制
- 配置
- 8x150 mm,单片晶圆旋转

将 AIX G5 WW C 定义为化合物半导体沉积系统,面向下一代 SiC 功率电子应用。写明该系统以批量外延的高吞吐量结合单片晶圆控制,目标是在同一设备方案中兼顾产能和外延层质量
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