
CVD/ALD/刻蚀工艺 Model: Qulee RGM2-202
Model: Qulee RGM2-202。关于Model: Qulee RGM2-202的介绍、购买、商讨。可以在反应过程中长时间进行稳定的测量。采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附,同时气体离解较少
- 型号
- Qulee RGM2-202
- 产品分类
- CVD/ALD/刻蚀工艺
- 型号
- RGM2-202 / RGM2-302
- 质量分离方式
- 四极型质量分析仪
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Model: Qulee RGM2-202。关于Model: Qulee RGM2-202的介绍、购买、商讨。可以在反应过程中长时间进行稳定的测量。采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附,同时气体离解较少

Model: Qulee RGM2-302。关于Model: Qulee RGM2-302的介绍、购买、商讨。可以在反应过程中长时间进行稳定的测量。采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附,同时气体离解较少

Model: Qulee RGM2-201F。最适合用于CVD/刻蚀/ALD过程管理。关于Model: Qulee RGM2-201F的介绍、购买、商讨。排气系统和控制系统集成,实现纵向放置,即使在空间有限的生产线上也可以进行反应气体监测,因为足迹是世界上最小的