CVD/ALD/刻蚀工艺 Model: Qulee RGM2-302
Qulee RGM2-302
Model: Qulee RGM2-302。关于Model: Qulee RGM2-302的介绍、购买、商讨。可以在反应过程中长时间进行稳定的测量。采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少
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气体分析仪（工艺气体监测仪）
CVD/ALD/刻蚀工艺
Model: Qulee RGM2-302
关于Model: Qulee RGM2-302的介绍、购买、商讨
可以在反应过程中长时间进行稳定的测量
采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少
紧凑型流量控制阀 处理室到离子源的距离很短，可以快速响应分辨率
可以测量宽范围的压力10 -6 to 13kPa（口径可选）
无需电脑也可以测量
One Click机能（对每个人来说都很容易，不需要复杂的操作）
连接传感器单元时，最大可以进行120℃的高温烘烤
离子源，二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性（专利申请中）
可进行氦气检漏，漏气测试
标准搭载软件（Windows 8/10/11）
CVD/ALD/蚀刻设备
监测工艺中的反应气体
蚀刻和清洁工艺的末端监测
残留气体测量
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