CVD/ALD/刻蚀工艺 Model: Qulee RGM2-302
Qulee RGM2-302
Model: Qulee RGM2-302。关于Model: Qulee RGM2-302的介绍、购买、商讨。可以在反应过程中长时间进行稳定的测量。采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少
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说明
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气体分析仪（工艺气体监测仪）
CVD/ALD/刻蚀工艺
Model: Qulee RGM2-302
关于Model: Qulee RGM2-302的介绍、购买、商讨
可以在反应过程中长时间进行稳定的测量
采用具有磁场的Claude离子源 软电离可防止在高灵敏度电离室因热反应而产生的分解和吸附，同时气体离解较少
紧凑型流量控制阀 处理室到离子源的距离很短，可以快速响应分辨率
可以测量宽范围的压力10 -6 to 13kPa（口径可选）
无需电脑也可以测量
One Click机能（对每个人来说都很容易，不需要复杂的操作）
连接传感器单元时，最大可以进行120℃的高温烘烤
离子源，二次电子倍增管的预防性维护分析管加载了可追溯性（专利申请中）
可进行氦气检漏，漏气测试
标准搭载软件（Windows 8/10/11）
CVD/ALD/蚀刻设备
监测工艺中的反应气体
蚀刻和清洁工艺的末端监测
残留气体测量
规格
| 型号 | Qulee RGM2-302 |
|---|---|
| 产品分类 | CVD/ALD/刻蚀工艺 |
| 型号 | RGM2-202 / RGM2-302 |
| 质量分离方式 | 四极型质量分析仪 |
| 质量数范围 | 1～200 amu / 1～300 amu |
| 分解能 | M/△M=1M (10%P.H.) |
| 检出器 | SEM/法拉第杯 |
| 感度 | 1×10 -3 A/Pa |
| 最小检知分圧 | 1×10 -10 Pa |
| 离子源 | 带磁铁的闭合离子源 |
| 灯丝 | V字型 Ir/Y 2 O 3 1个 |
| 电力电压 | 20～70 eV |
| 放射电流 | 10μA |
| 放大器范围 | 1×10 -5 ～1×10 -12 A |
| 可烘烤温度 | 120℃ |
| 气体导入阀 | 带孔流量控制阀 |
| 最大采样压力 | 13kPa |
| 差动排气系统 | 带中间排气，吹扫的涡轮分子泵。 |
| 涡轮分子泵 | 67L/s：N 2 |
| 前级泵 | DIS090 |
| 皮拉尼真空计 | SW1-1 |
| 电离真空计 | GI-M2 |
| 质量 | 排气系：57kg／控制系：38kg |
| 电源电压 | AC100V 15A |
| 压缩空气 | Dry N 2：0.4～0.7MPa (Φ6一触式配件) |
| One Click功能 | 有 / He / H 2 O / N 2 / O 2 / Any gas |
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