PlasmaPro 100 ICPCVD
PlasmaPro 100 ICPCVD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。This ICPCVD process module is designed to produce high quality films at low growth temperatures, enabled through high-density remote plasm
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 Oxford Instruments Plasma Technology PlasmaPro 100 ICPCVD，可提供产品参数、报价和售后服务咨询，价格面议。
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Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
This ICPCVD process module is designed to produce high quality films at low growth temperatures, enabled through high-density remote plasmas that achieves superior film quality with low substrate damage.
更好的均匀性、高产量以及高精度的工艺
电极的适用温度范围宽
兼容200mm以下所有尺寸的晶圆
快速更换不同尺寸晶圆
购置成本低且易于维护
紧密的设计，布局灵活
电阻丝加热电极，最高温度可达400°C或1200°C
实时监测清洗工艺，并且可自动停止工艺
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