
PlasmaPro 100 ICPCVD
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。This ICPCVD process module is designed to produce high quality films at low growth temperatures, enabled through high-density remote plasm
- 型号
- PlasmaPro 100 ICPCVD
- 产品分类
- Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ICPCVD
- 晶圆/样品尺寸
- 适用温度范围宽 兼容200mm以下所有尺寸的晶圆 快速更换不同尺寸晶圆 购置成本低且易于维护 紧密的设计,布局灵活 电阻丝加热电极,最高温度
- 工艺类型
- 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津
