Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ALDOxford Instruments Plasma Technology型号 FlexALFlexALAld原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。系统可提供远程等离子体原子层沉积(ALD),这为纳米结构和器件的工程设计提供了一系列新的灵活性和可行性型号FlexAL产品分类Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / ALD晶圆/样品尺寸处理高达200mm的晶圆工艺类型原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津查看详情