PlasmaPro 100 Nano
PlasmaPro 100 Nano
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。用于生长1D / 2D纳米材料和异质结构的CVD / PECVD工具。通过在线催化剂活化和严格的工艺控制，实现纳米材料的高性能生长
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 Oxford Instruments Plasma Technology PlasmaPro 100 Nano，可提供产品参数、报价和售后服务咨询，价格面议。
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Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
Nanoscale Growth
用于生长1D / 2D纳米材料和异质结构的CVD / PECVD工具。PlasmaPro 100 Nano通过在线催化剂活化和严格的工艺控制，实现纳米材料的高性能生长。
更佳的均匀性以及灵活的温度范围，最高可达1200°C
700°C、800°C或1200°C工作台可供选择
样品尺寸可达200mm
真空传送腔——快速更换样品
冷壁设计并辅以可均匀输送气体/液体源前驱体的喷头
可选的液体/固体源前驱体输送系统，用于生长MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料
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