PlasmaPro 100 PECVD 等离子体、原子层、离子束刻蚀沉积系统 - 牛津仪器
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能,如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下,生产均匀性好且沉积速率高的薄膜
广西科米瑞实验仪器设备有限公司生产销售 Oxford Instruments Plasma Technology PlasmaPro 100 PECVD 等离子体、原子层、离子束刻蚀沉积系统 - 牛津仪器,可提供产品参数、报价和售后服务咨询,价格面议。
← 返回产品列表
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能,如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下,生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。
高质量的薄膜,高产量和出色的均匀性
电极的适用温度范围宽
兼容200mm以下所有尺寸的晶圆
可快速更换硬件以适用于不同尺寸的晶圆
成本低且易于维护
电阻丝加热电极,最高温度可达400°C或1200°C
实时监测清洗工艺,并且可自动停止工艺
请填写必填信息,我们将在工作日尽快回复。