PlasmaPro 1000
PlasmaPro 1000
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器。若要查看此视频，请启用JavaScript，并考虑升级到支持HTML5视频的web浏览器
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说明
Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器
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大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案
更大的批量生产能力
更稳定的器件质量
提供单晶圆传送腔室或者多至三个腔室的集群式配置
标准的真空传送腔室，具有直开式和集群式选项
出色的正常运转时间
高质量器件性能和良率
规格
| 型号 | PlasmaPro 1000 |
|---|---|
| 产品分类 | Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 / PECVD |
| 工艺类型 | 原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津 |
| 产品特性 2 | Ald原子层沉积系统_离子束刻蚀设备_icp刻蚀系统_半导体射频器件- 牛津仪器 |
| 产品特性 3 | 大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案 |
FAQ
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