
OMNIS Oven Module 8 mL
用于安装在 OMNIS Sample Robots Oven 支架模块中的模块。该工作站拾取 8 mL 样品瓶,将其从交接位置运入炉中,在分析完之后再运回。
- 型号/名称
- OMNIS Oven Module 8 mL
- 产品编号
- 2.1017.1010
细胞、分子、生物制药、培养与成像
显微镜、成像系统、光学平台与光学测量
消解、萃取、浓缩、纯化、研磨与进样
加热、恒温、干燥、制冷、水浴、烘箱与培养箱
真空系统、泵、阀、气体、流量与液体处理
材料表征、热分析、力学、粒度、表面和物性测试
天平、搅拌、摇床、清洗、灭菌、工作台和常规设备
半导体、电子测量、电源、电池、探针台与微纳加工
实验室工程、配套系统、家具、管路与辅助系统
按原厂分类保留的其他专用仪器
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用于安装在 OMNIS Sample Robots Oven 支架模块中的模块。该工作站拾取 8 mL 样品瓶,将其从交接位置运入炉中,在分析完之后再运回。
是一套可用于液态气体或高压下气体的样品进样系统。此模块将自动运行,将相应量的气体送至燃烧炉中燃烧。Analytik Jena(耶拿分析仪器公司)的此项产品专门针对与离子色谱仪联用而进行了优化。
«填充床阴离子化学抑制器。受专利保护的MSM瑞士万通抑制器模块,既可作为独立的仪器使用,也可用来加在HPLC或IC系统中,以增加系统功能。耐溶剂,耐压力。带双通道泵,用以输送再生溶液和冲洗溶液。
查看详情WDXRF 顺序型光谱仪,适用于轻元素与金属薄膜,可用于最大 400 毫米试样片、溅射靶材及晶圆的薄膜厚度与成分分析 产品线:Semiconductors
可用于最大200毫米晶圆表面污染分析的TXRF光谱仪 产品线:Semiconductors、Total Reflection XRF (TXRF)
可用于最大300毫米晶圆表面污染分析的TXRF光谱仪 产品线:Semiconductors、Total Reflection XRF (TXRF)
可用于最大300毫米晶圆表面污染分析的TXRF-VPD光谱仪 产品线:Semiconductors、Total Reflection XRF (TXRF)
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