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SEAL Analytical analyzer and digestion system product pagesSEAL Analytical型号 AQ400

AQ400 Discrete Analyzer

Markets Environmental Wastewater Analysis Seawater Analysis Drinking Water Analysis Agricultural Soil and Plant Analysis Fertilizer Analysis Tobacco Analysis...

99 /100 750 Citations: 99 /100 / 750 Citations
99 /100: 750 Citations
Analyte: Method Detection Limit / Equivalence
Alkalinity: 6.5 mg CaCO3/L (Range: 10 to 100 mg CaCO3/L) 8.0 mg CaCO3/L (Range: 15 to 200 mg CaCO3/L) 16 mg CaCO3/L (Range: 50 to 500 mg CaCO3/L) / EPA 310.2 (1974)

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SEAL Analytical analyzer and digestion system product pagesSEAL Analytical型号 AQ300

AQ300 Discrete Analyzer

Markets Environmental Wastewater Analysis Seawater Analysis Drinking Water Analysis Agricultural Soil and Plant Analysis Fertilizer Analysis Tobacco Analysis...

Analyte: Method Detection Limit / Equivalence
Alkalinity: 6.5 mg CaCO3/L (Range: 10 to 100 mg CaCO3/L) 8.0 mg CaCO3/L (Range: 15 to 200 mg CaCO3/L) 16 mg CaCO3/L (Range: 50 to 500 mg CaCO3/L) / EPA 310.2 (1974)
Ammonia (phenate reagent): 0.004 mg N/L (Range: 0.02 - 2.0 mg N/L) 0.04 mg N/L (Range: 0.2 - 10 mg N/L) / EPA 350.1 (1993) SM 4500-NH3 F,G,H
Ammonia (phenate reagent, for brackish waters): 0.07 mg N/L (Range: 0.2 to 5.0 mg N/L) / EPA 350.1 (1993) SM 4500-NH3 F,G,H

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SEAL Analytical analyzer and digestion system product pagesSEAL Analytical型号 AA500

AA500 AutoAnalyzer

Markets Environmental Wastewater Analysis Seawater Analysis Drinking Water Analysis Agricultural Soil and Plant Analysis Fertilizer Analysis Tobacco Analysis...

99 /100 3,864 Citations: 99 /100 / 3,864 Citations
99 /100: 3,864 Citations
Analyte: SEAL Method # / Lowest Range / Highest Range
Alkalinity: A097 / 0 – 250 mg/L as CaCO3 / 0 – 500 mg/L as CaCO3

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SEAL Analytical analyzer and digestion system product pagesSEAL Analytical型号 QuAAtro39

QuAAtro39 AutoAnalyzer

Markets Environmental Wastewater Analysis Seawater Analysis Drinking Water Analysis Agricultural Soil and Plant Analysis Fertilizer Analysis Tobacco Analysis...

Analyte: SEAL Method # / Lowest Range / Highest Range
Alkalinity: Q021 / 0 - 80 mg/L as CaCO3 / 0 - 500 mg/L as CaCO3
Ammonia: Q022 / 0 - 0.3 mg/L as N / 0 - 7 mg/L as N
Chloride: Q023 / 0 - 15 mg/L as Cl / 0 - 200 mg/L as Cl

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SEAL Analytical analyzer and digestion system product pagesSEAL Analytical型号 AA100

AA100 AutoAnalyzer

Markets Environmental Wastewater Analysis Seawater Analysis Drinking Water Analysis Agricultural Soil and Plant Analysis Fertilizer Analysis Tobacco Analysis...

94 /100 24 Citations: 94 /100 / 24 Citations
94 /100: 24 Citations
Analyte: SEAL Method # / Lowest Range / Highest Range
Ammonia: E1001 / 0 - 600 μg/L as N / 0 - 14 mg/L as N

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SEAL Analytical analyzer and digestion system product pagesSEAL Analytical型号 DEENA 4

DEENA 4 Automated Digestion System

Markets Environmental Wastewater Analysis Seawater Analysis Drinking Water Analysis Agricultural Soil and Plant Analysis Fertilizer Analysis Tobacco Analysis...

EPA Method Number: EPA Method Name
3005: Acid Digestion of Waters for Total Recoverable or Dissolved Metals for Analysis by Flame Atomic Absorption (FLAA) or Inductively Coupled Plasma (ICP) Spectroscopy
3010: Acid Digestion of Aqueous Samples and Extracts for Total Metals for Analysis by Flame Atomic Absorption (FLAA) or Inductively Coupled Plasma (ICP) Spectroscopy
3050A: Acid Digestion of Sediments, Sludges, and Soils

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SENTECH型号 ICP-RIE SI 500

ICP-RIE等离子刻蚀机 SI 500

低损伤刻蚀由于离子能量低，离子能量分布带宽窄，因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。高速刻蚀对于具有高深宽比的高速硅基MEMS刻蚀，光滑的侧壁可以通过室温下气体切换工艺或低温工艺即可很容易地实现。自主研发的ICP等离子源三螺旋平行板天线(PTSA)等离子源是SENT...

型号: ICP-RIE SI 500
产品分类: / 等离子工艺设备 / 等离子刻蚀 / ICP-RIE等离子刻蚀机SI 500 ICP-RIE SI 500
晶片/样品尺寸: 直径高达200 mm的晶片到装载在载片器上的零件
晶片/样品尺寸: 适用于200mm的晶片衬底温度从-20 °C到300

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SENTECH型号 RIE Etchlab 200

RIE等离子刻蚀机 Etchlab 200

低成本效益高 RIE等离子蚀刻机Etchlab 200结合平行板等离子体源设计与直接置片。升级扩展性根据其模块化设计，等离子蚀刻机Etchlab 200可升级为更大的真空泵组，预真空室和更多的气路。SENTECH控制软件该等离子刻蚀机配备了用户友好的强大软件，具有模拟图形用户界面，参数窗口，工艺编辑窗口，...

型号: RIE Etchlab 200
产品分类: / 等离子工艺设备 / 等离子刻蚀 / RIE等离子刻蚀机Etchlab 200 RIE Etchlab 200
晶片/样品尺寸: 适用于200mm的晶片用于激光干涉仪和OES的诊断窗口
晶片/样品尺寸: 适用于4英寸到 8英寸的晶片小片或碎片的载片器氯基刻蚀气体

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SENTECH型号 RIE SI 591 compact

RIE等离子刻蚀机 SI 591

工艺灵活性 RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工艺占地面积小且模块化程度高 SI 591 可配置为单个反应腔或作为片盒到片盒装载的多腔设备。SENTECH控制软件我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。预真空室和计算机...

型号: RIE SI 591 compact
产品分类: / 等离子工艺设备 / 等离子刻蚀 / RIE等离子刻蚀机SI 591 RIE SI 591 compact
晶片/样品尺寸: 样品直径大可达200mm
晶片/样品尺寸: 适用于200mm的晶片用于激光干涉仪和OES的诊断窗口

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SENTECH型号 ICPECVD SI 500 D

等离子沉积设备 SI 500 D

高密度等离子体 SI 500 D具有优异的等离子体特性，如高密度，低离子能量和低压等离子沉积介质膜。平行板ICP等离子体源 SENTECH专利特有的平行板三螺旋天线(PTSA)ICP等离子体源实现了低功率耦合。优异的沉积性能低刻蚀速率，高击穿电压，低应力、不损伤衬底以及在低于100°C的沉积温度下的低界面态密...

型号: ICPECVD SI 500 D
产品分类: / 等离子工艺设备 / 等离子沉积 / 等离子沉积设备SI 500 D ICPECVD SI 500 D
晶片/样品尺寸: 直径高达200 mm的晶片到装载在载片器上的零件
晶片/样品尺寸: 适用于 200mm的晶片衬底温度从室温到350 °C 激

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SENTECH型号 PECVD SI 500 PPD

带预真空室的化学气相沉积设备 SI 500 PPD

工艺灵活性 PECVD沉积设备SI 500 PPD便于在从室温到350℃的温度范围内进行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的标准的化学气相沉积工艺。预真空室 SI 500 PPD的特色是预真空室和干泵装置，用于无油、高产量和洁净的化学气相沉积过程。SENTECH控制软件强大的用户界面友好软件包括模拟图形...

型号: PECVD SI 500 PPD
产品分类: / 等离子工艺设备 / 等离子沉积 / 带预真空室的化学气相沉积设备SI 500 PPD PECVD SI 500 PPD
晶片/样品尺寸: 适用于大到200mm的晶片衬底温度从室温到350 °C 可
工艺模块: 六个工艺模块端口

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SENTECH型号 PECVD Depolab 200

PECVD等离子沉积设备 DEPOLAB 200

低成本效益高 PECVD等离子体增强化学气相沉积设备Depolab 200将平行板等离子体源设计与直接载片相结合。升级扩展性根据其模块化设计，PECVD Depolab 200可升级为更大的真空泵组，低频射频源和更多的气路。SENTECH控制软件强大的用户友好软件包括模拟图形用户界面，参数窗口，工艺处方编辑窗...

型号: PECVD Depolab 200
产品分类: / 等离子工艺设备 / 等离子沉积 / PECVD等离子沉积设备DEPOLAB 200 PECVD Depolab 200
晶片/样品尺寸: 适用于大到200mm的晶片衬底温度可高达400 °C 可选

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