原子层 沉积
SENTECH ALD设备的优势 用于敏感衬底的PEALD 真远程等离子体源能够在低温<100°C下高均匀度和高保形性地覆盖敏感衬底和膜层,在样品表面提供高通量的反应性气体,而不受紫外线辐射或离子轰击。用于工艺研发和改善的实时监测 ALD实时监视仪RTM的原位诊断实现了单一ALD循环的超高分辨率。优点是确认ALD范围,减少处理时间和总生产成本。采用椭偏...
- 型号
- ALD Systems
- 产品分类
- / 等离子工艺设备 / 原子层沉积 / 原子层沉积 ALD Systems
- 工艺模块
- 3到6端口多腔系统的ALD模块 结合PECVD, ICPECVD和