等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC
PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能
- 型号
- PD-2201LC
- 产品类别
- PECVD system
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC节省空间的生产系统
广西科米瑞实验仪器设备有限公司 · 第 1 / 1 页 · 共 4 条
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PD-220N是用于沉积各种硅薄膜（SiO2、Si3N4等）的等离子体CVD系统。PD-220N在提供薄膜沉积所需的全部功能的同时，占地面积比本公司的传统系统小40%
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