等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC
PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能
- 型号
- PD-2201LC
- 产品类别
- PECVD system
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-2201LC节省空间的生产系统
等离子体增强型CVD设备 PD-220N
PD-220N是用于沉积各种硅薄膜（SiO2、Si3N4等）的等离子体CVD系统。PD-220N在提供薄膜沉积所需的全部功能的同时，占地面积比本公司的传统系统小40%
- 型号
- PD-220N
- 产品类别
- PECVD system
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-220N
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-220N研究开发用等离子体CVD设备
等离子体增强型CVD设备 PD-220NL
PD-220NL 是一种负载锁定等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 系统，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。该系统以非常紧凑的占地面积提供了PECVD的所有标准功能
- 型号
- PD-220NL
- 产品类别
- PECVD system
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-220NL
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-220NL紧凑的研发用负载锁定系统
等离子体增强型CVD设备 PD-3800L
PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统。该系统由于采用了大型反应室，并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理，因此产量较高
- 型号
- PD-3800L
- 产品类别
- PECVD system
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-3800L
- 技术参数
- 等离子体增强型CVD设备 PD-3800L批量加工设备